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如何补偿带式干燥机机械基板表面的吸附概率

信息来源: | 发布日期: 2016-11-01 | 浏览量:
关键词:带式干燥机机械基板表面补偿

  在其他情况下,先前吸附在物料表面上的气体分子之间的分子相互作用与气相中的气体分子形成显着的相互作用。因此,气体分子对表面的吸附更可能发生在已经存在于固体表面上的气体分子周围,使得朗缪尔吸附等温线对于建模目的无效。在1957年由保罗·基斯洛克(1922-2008)在氮气是吸附物和钨是吸附剂的系统中研究了该效应。
  
  为了补偿在干燥机械基板表面上存在的分子周围出现吸附的增加的概率,从而才开发了在带式干燥机中的前体状态理论,由此分子将在气相中在固体吸附剂和吸附物之间的界面处进入前体状态。从这里,吸附分子将吸附到吸附剂或解吸到气相中。从前体状态发生吸附的概率取决于被吸附物与已经被吸附的其他被吸附物分子的接近程度。
  
  如果前体状态的吸附物分子与已经在表面上形成的吸附物分子非常接近,则其具有由SE常数的大小反映的粘附概率,并且将以如下速率从前体状态吸附: kEC或将以kES的速率解吸到气相中。如果吸附物分子在远离任何其他先前吸附的吸附物分子的位置进入前体状态,则粘附概率由SD常数的大小反映。

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